龙8国际头号玩家本申请公开了一种半导体制程设备。半导体制程设备包括：基台，至少一冷却子结构和至少一边缘冷却机构。基台包括主体和至少一承载部，其中，基台的至少一承载部用以放置半导体籽晶；至少一冷却子结构设置在基台的主体内，至少一边缘冷却机构设置在对应至少一冷却子结构内且对应至少一承载部的边缘处，以在基于半导体籽晶生长半导体材质时，藉由至少一边缘冷却机构调节控制半导体籽晶的边缘处的温度。该半导体制程设备通过至少一边缘冷却机构对半导体籽晶的边缘处的温度进行调节控制保护半导体籽晶单晶生长的稳定性，提升成品质量和成品良率

　　211、第一出液管212，和环状边缘冷却连接管213。其中，环状边缘冷却连接管213设置在第

　　[0050]需要说明的是，环状边缘冷却连接管213的内径可以是10mm，15mm或8mm等，环状边

　　[0062]需要说明的是，中心冷却连接管313的内径可以是10mm，15mm或8mm等，中心冷却连

　　511、第一出液总管512、第一流量调节总阀513、第二进液总管611、第二出液总管612和第二

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